Deux applications principales pouvant être envisagées pour construire une telle
machine, l'évaluation des performances doit se faire en fonction de ces applications.
La première concerne la génération de hautes températures dans une cavité. Afin de
construire une cavité à haute température (dénommée hohlraum), il est
nécessaire de disposer d'une source d'énergie et d'une cavité capable de confiner
cette énergie et de l'uniformiser. Le pinch fournit une forte puissance sous la forme
de rayonnement. Le fait qu'il s'agisse d'une forte puissance est important, étant
donné que c'est le temps bref nécessaire pour délivrer l'énergie qui permet que le
confinement soit réalisable par la cavité. Cette dernière est généralement constituée
d'un matériau de numéro atomique élevé -- tel que l'or -- afin de facilement
réémettre la puissance rayonnée en uniformisant alors le rayonnement.
Plusieurs schémas correspondant aux diverses façon de placer la cavité par rapport
au pinch existent:
- hohlraum statique
- simple, la cavité est `` creusée '' dans le retour de
courant du pinch. L'uniformité du rayonnement est très mauvaise.
- hohlraum statique
- pour expérience de fusion, la cavité est comprise entre
deux pinch situés au dessus et en dessous. L'uniformité du rayonnement est
meilleure mais il faut disposer de deux générateurs identiques capables
d'alimenter deux pinch identiques.
- hohlraum dynamique
- , la cavité est placée à l'intérieur du pinch qui vient
impacter un cylindre central plein et homogène (habituellement une mousse). Le
pinch se thermalise lors du choc et emprisonne le rayonnement du fait de son
opacité. Étant donné que le choc progresse vers l'axe, le volume de la cavité
décroît avec le temps en même temps que la température augmente et que
l'uniformité se dégrade.
Dans le cas d'un générateur
en
sans pré-impulsion
dans la charge, selon des simulations numériques réalisées à l'aide des outils
décrits dans la section 3 page
, ces schémas
offriraient les performances suivantes:
-
pour une hohlraum statique simple ;
-
pour une hohlraum statique pour expérience de fusion ;
-
pour une hohlraum dynamique ;
La seconde application concerne la production de fortes pressions, que ce soit sous
la forme de chocs ou bien en rampes de pression. La génération de rampes de pression
est facilitée par la structure double étage du compresseur de flux, qui peut permettre
d'utiliser directement la forme de courant générée par le premier compresseur
(impulsion sub-microseconde) ou bien la forme de courant finale, de temps de montée de
l'ordre de la centaine de nanosecondes. Sur un échantillon de largeur
raisonnable, on peut alors estimer les performances suivantes, pour des échantillons
en cuivre:
-
sous choc pour un échantillon3.21 de
;
-
sous choc pour un échantillon de
;
-
en compression isentropique sur un échantillon3.22 de
;
Les performances données ici doivent être comprises comme de simples ordres de
grandeurs. Il ne s'agit en aucun cas de valeurs exactement semblables à celles
qui seraient obtenues, car:
- la machine doit se préciser: le courant réellement atteignable et l'impédance
du générateur dépendent du schéma retenu et influent largement sur les
performances et les types de charges adaptés.
- les charges elles-mêmes doivent être optimisées en fonction de la machine.
Rappelons qu'une charge carrée peut permettre d'obtenir deux fois plus de
pression qu'une charge cylindrique à courant fixé !
- tout un ensemble de phénomènes annexes doit être étudié: mise en mouvement
des conducteurs, mise en plasma des électrodes, homogénéité du champ magnétique en
surface d'un échantillon ...
Ces différents points sont tout autant susceptibles d'améliorer les performances que
de les dégrader.
Notes
- ... échantillon3.21
- Cette
largeur représente une largeur typique d'échantillon utilisé lors du programme
expérimental de compression de flux sur Z
à laquelle on ajoute une marge
de sécurité
- ... échantillon3.22
- En
effet, les ondes latérales se propageant à
pendant un temps de l'ordre de
imposent un échantillon de largeur supérieure à
pour le
cuivre à laquelle il faut ajouter une surface suffisante d'échantillon non
perturbé pour faire la mesure !
Mathias.Bavay_at_ingenieurs-supelec.org - juillet 2002